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栅格离子源原理

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-01-25 1:14:11 * 浏览: 8
离子源用于检查特高压甚至XHV应用中的残留气体。其极其开放的结构和材料选择确保了极低的内部气体排放。离子源配有两根钨丝,可以同时对其进行加热和脱气。如果在低于10-11 hPa的压力下进行工作,尤其是为此目的,则应使用已充分脱气的杆系统。低于10-10 hPa的压力范围内的测量值可能会因所谓的EID(电子碰撞脱附)离子而失真。 [32]。这些(H +,O +,F +,Cl +)离子通过表面上的电子碰撞直接解吸,通常产率很高。 EID离子来自特高压设备的早期历史中的吸附剂涂层或离子源,通常具有几eV的初始能量。通过仔细选择场轴电压以抑制来自气相的能量约为100 eV的EID离子,可以使用此属性(图6.10)。