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真空纳米半导体薄膜的制备

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-03-18 1:23:03 * 浏览: 11
有许多制备纳米半导体薄膜的技术。从理论上讲,任何能够制备多晶或单晶半导体膜的技术都可以用于制备纳米半导体膜,但是对相应的制备技术有更严格的要求:①表面清洁,②晶粒形状和形状。可以控制粒径分布以防止颗粒团聚,从而可以更好地控制膜厚;③具有更好的热稳定性;④易于收集,并且产率高。以控制晶粒形状,粒度和粒度分布为例,这通常是通过控制衬底的生长温度或成膜后的退火温度和时间来实现的。当然,真空蒸镀,溅射,化学气相沉积,外延沉积,激光沉积,自组装和分子自组装等薄膜制备技术的进步为纳米半导体薄膜的研究开辟了广阔的领域。电影。