当前位置:首页> 新闻中心

新闻中心

真空纳米粒子铜膜的制备

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-11-04 6:21:05 * 浏览: 15
通过离子束溅射制备铜纳米颗粒膜。使用真空泵将真空室的压力抽至10-3Pa的12倍,然后将旋转目标的目标表面旋转到一定水平,以避免轰击主离子源。高纯氩气进入主离子源,正常放电后将离子束取出。打开挡板,离子束轰击旋转的基板支架上的基板,然后进行溅射清洗。清洁时间为6分钟,真空室压力为2倍,压力为10-2Pa,然后关闭主离子源,关闭挡板,并打开辅助离子源。通过不同的循环次数可以获得不同的膜厚度。镀膜样品是Cu / SiO 2。为了使电子显微镜样品的结构与具有异常光吸收特性的光学样品完全一致,当通过透射电子显微镜观察时,首先将石英膜层镀在基板上,然后镀铜膜以进行采样。总共电镀了两个样品。每层的电镀时间为:样品1号SiO210min,Cu30s,样品2号SiO210min,Cu40s。