磁盘空间不足。 纳米粒子铜膜的制备
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纳米粒子铜膜的制备

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-09-30 0:08:55 * 浏览: 0
【Kangwo真空网络】使用真空泵将真空室的压力抽至10到3Pa的2倍,然后将旋转目标台的特定目标表面旋转到一定水平,以避免轰击主离子源。将高纯氩气送入主离子源,正常放电后再抽出离子束。打开挡板,离子束轰击旋转的基板支架上的基板,然后执行1溅射清洗。束流稳定后,清洁时间为6rrun,真空室的压力为2倍,即10-2,将铜靶旋转到水平面的位置450,打开挡板,然后将铜溅射到基板上。镀敷一段时间后,关闭辅助离子源,关闭挡板,完成单层铜颗粒膜的镀敷。当镀覆复合膜时,可以将石英靶旋转至水平面为454的位置,并且可以重复上述操作。交替一次作为一个周期,并使用不同数量的周期来获得不同厚度的薄膜。涂覆的薄膜样品为Cu / SiO2。为了使电子显微镜样品的结构与具有异常光吸收特性的光学样品完全一致,首先将石英膜镀在基板上,然后将铜膜镀至方便透射电子显微镜观察过程中取样。镀两个样品。每层的电镀时间分别为:1号样品SO210min,Cu30s,2号样品SiO210min,Cu40s。