当前位置:首页> 新闻中心

新闻中心

真空离子镀膜设备概述

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-04-02 15:37:03 * 浏览: 13
(1)适用范围本标准适用于压力范围为10-4Pamdash,10-3Pa的真空离子镀膜设备(以下简称设备),包括以下类型:多电弧离子镀,电弧放电真空离子电镀,空心阴极离子(HCD),射频离子电镀(RFIP),直流放电二极管(DCIP),多阴极,主动反应蒸发(ARE),增强型ARE,低压等离子体离子电镀(LFPD),电场蒸发离子镀,感应加热离子镀,团簇离子束镀等。(2)设备主要技术参数设备主要技术参数应符合表10-30的要求。 (3)结构要求①设备中的真空管道,静密封件(法兰,密封圈等)的结构类型应符合GB / T6070的规定。 ②真空计应安装在低真空和高真空管及真空镀膜室上,以测量各部分的真空度。如果发现电场对测量产生干扰,则应在测量端口处安装电场屏蔽设备。 ③如果设备中使用的主泵是扩散泵,则应在泵的入口侧安装一个疏水阀。 ④设备的涂装间应设有观察窗,观察窗应设有挡板装置。观察窗应能够观察沉积源和其他关键部件的工作状况。 ⑤离子镀沉积源的设计应在涂覆过程中最大程度地提高离子化速率,提高涂料的利用率,合理地匹配沉积源的功率,并在真空室中布置沉积源的位置。 ⑥合理布置加热装置。通常,加热器的结构应使待镀工件的温度升高均匀。工件支架应与真空腔室主体绝缘,并且工件支架的设计应使工件的薄膜均匀。 ium离子镀膜设备通常应具有负偏压的工件和离子轰击电源。离子轰击电源应具有抑制异常放电并保持稳定运行的装置。 the连接不同电位的真空室各部分之间的绝缘电阻的大小符合GB / T11164-99的有关规定。 (4)试验方法极限压力,泵送时间和增压率的试验方法与“ 2”相同。真空镀膜设备一般条件下相应参数的试验方法。